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喜報(bào)丨安集科技屢獲嘉獎(jiǎng)，“創(chuàng)新”激發(fā)工藝升級(jí)

2023-11-29

近日，安集科技出席“優(yōu)化營(yíng)商環(huán)境暨優(yōu)秀企業(yè)表彰大會(huì)”，榮獲“科技創(chuàng)新成就獎(jiǎng)'的殊榮。今年是安集科技的“創(chuàng)新”收穫之年，屢次收穫各方認(rèn)可與青睞。第六屆IC技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)、十佳成長(zhǎng)企業(yè)、十佳優(yōu)秀知識(shí)產(chǎn)權(quán)企業(yè)、上海硬核科技企業(yè)、產(chǎn)業(yè)鏈突破獎(jiǎng)、科技創(chuàng)新成就獎(jiǎng)......這些獎(jiǎng)項(xiàng)，不僅是對(duì)安集技術(shù)實(shí)力和創(chuàng)新能力的肯定，更是對(duì)安集科技“創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)未來(lái)”的前瞻性企業(yè)理念認(rèn)同。

創(chuàng)新驅(qū)動(dòng) 載譽(yù)前行

“拋光、清洗、沉積”三大關(guān)鍵工藝升級(jí)

隨著電子產(chǎn)品趨向於小型化、功能化和低功耗等方向發(fā)展，以系統(tǒng)級(jí)封裝、晶圓級(jí)封裝和2.5D/3D封裝為代表的先進(jìn)封裝技術(shù)獲得越來(lái)越多的應(yīng)用。因此，行業(yè)從過(guò)去專注於晶圓制程工藝的提升轉(zhuǎn)而追求對(duì)封裝技術(shù)的革新。而先進(jìn)封裝的發(fā)展也同樣需要濕法材料的支持。經(jīng)過(guò)多年的發(fā)展，安集科技的產(chǎn)品已涵蓋拋光液、功能性濕電子化學(xué)品和電鍍液及添加劑等，技術(shù)已涵蓋積體電路製造中的“拋光、清洗、沉積”三大關(guān)鍵工藝，產(chǎn)品組合可廣泛應(yīng)用於晶片前道製造及後道先進(jìn)封裝過(guò)程中的拋光、刻蝕、沉積等關(guān)鍵迴圈重複工藝及銜接各工藝步驟的清洗工序。

化學(xué)機(jī)械拋光液

在拋光液領(lǐng)域，安集科技有著豐富的經(jīng)驗(yàn)。為促進(jìn)3D互聯(lián)、TVS等先進(jìn)封裝技術(shù)的發(fā)展，安集提供了鍵合工藝的解決方案。鍵合工藝對(duì)銅dishing、erosion要求極高。安集採(cǎi)用創(chuàng)新的緩蝕劑技術(shù)，定向吸附銅的表面，降低銅的拋光速度。通過(guò)這樣的創(chuàng)新，在整個(gè)拋光之後，控制dishing、erosion，達(dá)到先進(jìn)封裝的互聯(lián)需求。

功能性濕電子化學(xué)品

安集科技刻蝕後清洗液從2007年開(kāi)始量產(chǎn)，提供胺基刻蝕後清洗液、半水性刻蝕後清洗液及水性刻蝕後清洗液解決方案；拋光後清洗液在2015年就已經(jīng)量產(chǎn)，現(xiàn)在鹼性體系中的重要客戶也已有供應(yīng)。目前，安集科技功能性濕電子化學(xué)品在邏輯晶片、3D NAND、DRAM以及特色工藝方面，都已經(jīng)進(jìn)行批量供應(yīng)，越來(lái)越多的客戶採(cǎi)用安集科技的解決方案。

電鍍液及其添加劑

安集科技提供一系列電鍍液及其添加劑，包括積體電路大馬士革工藝銅電鍍液及添加劑、先進(jìn)封裝銅、鎳、錫銀電鍍液及其添加劑，進(jìn)一步支持我國(guó)積體電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展。針對(duì) on-chip 晶片電鍍技術(shù)要求，安集科技從 Bottom-up 機(jī)理入手，通過(guò)調(diào)整電鍍液中的添加劑，實(shí)現(xiàn)良好的孔填充效果。在 Off-chip 層面，異構(gòu)封裝面臨挑戰(zhàn)，安集科技通過(guò)電鍍液實(shí)現(xiàn)了填充細(xì)線填孔，再通過(guò)添加劑調(diào)整晶格大小、調(diào)整電阻，改善導(dǎo)電性，以助力互聯(lián)技術(shù)的發(fā)展。

安集科技始終和客戶一起協(xié)同創(chuàng)新，對(duì)產(chǎn)業(yè)鏈穩(wěn)健發(fā)展貢獻(xiàn)一份力量。安集科技一直堅(jiān)持可持續(xù)發(fā)展理念，締造安全環(huán)保的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品。